Suhr, S. Wizemann, P. Henne, H. Grünwald und D. lacocca, Acta Scienc. Venezolana, 30, 274-278 (1979): "Desulfurations Using Plasma Techniques II. Decomposition of Sulfones".
Schriften Kategorie:
‘Gesamtes Schriftverzeichnis’
1.
2.
D. lacocca, H. Suhr, S. Wizemann, P. Henne und H. Grünwald, Proc. 4th Int. Symp. Plasma Chem., ISPC-4, Zürich (Hrsg. S. Veprek und J. Hertz), 483-485 (1979): "Desulfuration of Sulfones".
3.
H. Grünwald, Diplomarbeit, Univ. Tübingen (1982): "Oberflächenbehandlung von Diethylenglykolbis(Allylcarbonat) mit HF-Niederdruckplasmen".
4.
H. S. Munro und H. Grünwald, J. Polym. Sci., Polym. Chem Ed., 23, 479-488 (1985): "The Influence of Power and Substrate Temperature on the Chemical Composition, Determined by ESCA, of the Inductively Coupled RF Plasma Polymerization of Acrylonitrile".
5.
H. Grünwald und H.S. Munro, DE 35 18 197 (21.5.1985): “Verfahren zur Entfernung von Metallionen aus Körpern aus Glas, keramischen Werkstoffen und sonstigen amorphen Werkstoffen sowie kristallinen Werkstoffen".
6.
H. Grünwald, H. Suhr, H.S. Munro und C. Till, DE 35 22 817 (26.6.1985): „Verfahren zur Herstellung bewuchsabweisender sowie fraßhemmender Schichten".
7.
H. Suhr, A. Etspüler, E. Feurer, H. Grünwald, C. Haag und C. Oehr, Proc. 7th Int. Symp. Plasma Chem., ISPC-7, Eindhoven (Hrsg. D.C. Schram und G. J. Timmermans), 53-55 (1985): "Conducting, Semiconducting, and Isolating Thin Films".
8.
H. Grünwald, H.S. Munro, DE 35 41 721 (26.11.85): „Verfahren zur Herstellung dünner, lochfreier, elektrisch leitender Polymerschichten".
9.
K. Enke, H. Grünwald, I. Hussla und G. Lorenz, DE 36 33 386 (1.10.1986): "Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln von Substraten im Vakuum".
10.
H. Grünwald, H. Suhr, H.S. Munro, Proc. 8th Int.Symp. Plasma Chem., ISPC-8, Tokyo (Hrsg. K. Akashi und A. Kinbara), 1273-1278 (1987): "Influence of Process Parameters and Reactor Configuration on the Chemical Composition of Plasma Polymers".
11.
H. Grünwald, J. Bartella und U. Herwig, a.a.O, 1720 -1725: “Removing Alkali Ions from the Surface Layer of Glass by Plasma Treatment".
12.
H. Grünwald, “Plasmapolymerisation von Acrylnitril, Propylenoxid und Tributylzinn-Methacrylat”, Dissertation, Tübingen (1987)
13.
J. Bartella, H. Grünwald und U. Herwig, Microchim. Acta 365-369 (1987): "XPS and SIMS Investigations on Plasma-Treated Glass Surfaces".
14.
I. Hussla, K. Enke, H. Grünwald, G. Lorenz und H. Stoll, J. Phys. D: Appl. Phys.20, 889-896 (1987): “In Situ Silicon Wafer Temperature Measurements During RF Argon-Ion Plasma Etching via Fluoroptic Thermometry".
15.
G. Castrischer, P.M. Banks, T.-M. Pang, P. Baumann, H. Grünwald, I. Hussla, G. Lorenz, H. Stoll und H. Ramisch, Microel. Eng. 6., 559-563 (1987): "ln-Situ Temperature Measurements for Aluminium Etching".